水中含有大量杂质，只有去除水中的杂质，才能用于对水纯度要求高的行业。EDI超纯水设备可以去除水中的各种杂质，超纯水系统处理后的水可以满足电子行业的需求，实验室等高标准用水，因此可以通过超纯水设备去除其中的杂质。

　　超纯水设备去除杂质

　　1.溶解无机盐

　　EDI超纯水设备有钠、钙、镁等盐类，溶于水形成正离子。当含有这些离子的水冲洗半导体器件时，这些杂质会扩散到集成电路表面，造成短路。过去是用蒸馏水去除水中的无机盐，现在是三重蒸馏水。水的电阻率只有3兆欧-厘米，而且水中仍然含有大于01ppm的NaCl。最近，反渗透去离子很有用，所以使用离子交换树脂，阳离子交换脂和阴离子交换树脂分开使用，易于再生，混床离子交换树脂用于离子交换的最后阶段，起到看门人的作用。这种水可以达到18兆欧厘米（25摄氏度）。

　　2.溶解有机物

　　有工业废物、洗涤剂、可生物降解产品和微生物代谢物，这些可以通过活性炭吸附法去除，炭床要放在离子交换树脂之前，因为活性炭本身会带杂质。必须注意的是，进入树脂床的水首先要除去有机物，因为离子交换树脂很容易被有机物（如腐殖酸）污染。反渗透可以去除分子量大于300的有机物，分子量小于300的有机物可以去除90%。

　　3.颗粒物

　　EDI超纯水设备在很多地方容易生产，如碳床、树脂床、深度过滤等设备。虽然使用了一些方法来实现高电阻率，但颗粒物并没有被有效去除，这会导致半导体器件中出现针孔、短路、开路、内部击穿和光刻胶脱落等缺陷。为了去除颗粒物，仅使用膜过滤，一般采用孔径为0.45微米的微孔滤膜作为标准，对于特殊需要，采用孔径为0.22微米的微孔滤膜去除胶体铁、胶体硅和小细菌，反渗透还可以去除小颗粒。