超纯水设备
集成电路工业中用于半导体原材料和所用器皿的清洗、光刻掩模版的制备和硅片氧化用的水汽源等。此外，其他固态电子器件、厚膜和薄膜电路、印刷电路、真空管等的制作也都要使用超纯水

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制备超纯水设备的工艺大致分成以下几种：
1、采用离子交换树脂制备超纯水的传统水处理方式，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→阳床→阴床→混床→纯水箱→纯水泵→后置精密过滤器→用水点
2、采用反渗透水处理设备与离子交换设备进行组合的方式，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→混床→后置精密过滤器→纯水箱→用水点
3、采用反渗透水处理设备与电去离子（EDI）设备进行搭配的的方式，这是一种制取超纯水的工艺，也是一种环保，经济，发展潜力巨大的超纯水制备工艺，其基本工艺流程为：原水→砂碳过滤器→反渗透设备→原水箱→纯水泵→电去离子（EDI）→纯水箱→用水点
4、采用反渗透+混合床方式，其流程如下：
原水→原水加压泵→砂碳过滤器→反渗透→中间水箱→中间水泵→混合床→微孔过滤器→用水点

以下为一经典18x106Ω•cm工艺流程及图片：
原水→原水泵→砂碳过滤器→加药装置→一级反渗透→中间水箱→PH调节装置→二级反渗透→二级水箱→输送泵→精密过滤器→TOC去除机→EDI→超纯水箱→输送泵→抛光混床→UV杀菌器→精密过滤器→用水点

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